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京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术 提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论

2022-01-29 17:42:41来源:快科技

1月29日消息,日前,BOE创新汇公众号宣布,京东方已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题。

京东方在业内率先实现了铜互连堆叠结构的量产,及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,打破了国外垄断,在行业内持续推出低功耗、超窄边、500Hz+电竞显示屏、超大尺寸 8K Oxide 120Hz、可变频刷新率显示等一系列高端技术和产品。

值得一提的是,京东方还展示了拥有全球最高刷新率显示的27英寸氧化物FHD 500 Hz+显示屏。

据介绍,这款显示器采用高迁移率Oxide背板,支持8Lane eDP输出、真8bit输出,拥有1ms响应。

官方表示,京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术,提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论,同时产学研联合,在材料、器件结构和原理上均实现了突破,解决了氧化物半导体显示技术的量产难题,在国内率先实现量产。

同时,集成栅驱动电路嵌入阵列基板、触控驱动的集成化技术、高透过率的薄膜光学模型等,既实现了产品性能提升,又实现了从传统非晶硅TFT向氧化物导体显示的技术升级。

关键词: 京东方 技术

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